工作职责
1、负责RIBE设备及核心工艺设备与技术,进行工艺评估并建立标准工艺流程;
2、负责SiC 与 玻璃基板上 TiO2,倾斜光栅刻蚀,以及ICP刻蚀硬掩模的工艺评估及标准工艺流程的简历。
任职资格
1、本科及以上学历,5-10年左右相关工艺研发经验;
2、 掌握离子刻蚀工艺原理,熟悉刻蚀设备操作与参数调试;
3、能独立开发原理验证阶段 ICP 与 RIBE 刻蚀工艺,优化样机阶段刻蚀参数,解决刻蚀过程中图形保真度、表面粗糙度等问题;
4、了解衍射光栅刻蚀工艺与光栅结构,有解决工艺难点的经验。